本工程为xxxx工程，工程建设地点位于xx区酒仙桥路10号，xx科技集团园区内，南邻酒仙桥中路，东、北、西均为园区道路。总建筑面积约14850m2，其中地下面积4300m2，地上面积10500m2，使用功能为科研楼，地下2层（局部有夹层）、地上8层。结构形式为框架-剪力墙结构。建筑高度36.45m，设计合理使用年限为50年。